開始玩

← fab24hr 專欄

晶片怎麼做約 5 分鐘

摻雜是什麼?n 型、p 型半導體怎麼做成「平常斷著」的開關

摻雜(doping)是在很純的矽裡,故意加進極少量的別種原子,改變它導電的方式。加磷這類比矽多一個電子的原子,矽裡就多出能跑的電子,叫 n 型;加硼這類少一個電子的原子,就多出一個個空位,叫 p 型。把 n 型和 p 型照順序排好,就成了晶片裡的開關(電晶體):平常斷著,閘極加上電壓才接通。

純的矽,為什麼幾乎不導電?

矽原子最外層有四個電子,像四隻手,各牽住旁邊一個矽原子,排成整整齊齊的格子。電子都被綁在原子和原子之間,跑不動,電就流不過去。從頭講的版本,見「半導體是什麼?」。

被綁住的電子要能跑,得先跳過一道坎,課本叫它「能隙」。金屬沒有這道坎,電子本來就跑得動;玻璃、塑膠的坎很高,幾乎沒有電子跳得過去。矽的坎不高不低:室溫下靠熱,偶爾有電子跳過去,可是大約幾兆個矽原子才有一個。所以純的矽幾乎不導電。

加一點點別的原子,會怎樣?

加的量極少:少的大約一億個矽原子才放一個,多的大約一萬個放一個,有些地方還更多。

  • 加磷,變成 n 型:磷有五個外層電子。它取代一個矽原子、牽好四個鄰居,還多出一個。這個電子被抓得很鬆,要跳的坎比矽那道低得多,室溫下大多就能到處跑。跑的是帶負電(negative)的電子,所以叫 n 型。
  • 加硼,變成 p 型:硼只有三個外層電子,總有一個鄰居的手沒人牽,留下一個空位,叫「電洞」。想像停車場一排停滿的車,中間空出一格:後面那台往前補進空格,空格就退到它原本的位置;下一台再往前補……車子一台一台往前,空格就一路往後退。真正動的是電子,看起來卻像一個帶正電(positive)的空位在跑,所以叫 p 型。

整塊矽並沒有帶電;n、p 說的只是裡面跑的是電子,還是空位。

n 和 p 碰在一起,會怎樣?

n 型和 p 型接在一起的地方,電只能往一個方向過:從 p 這一邊推向 n,過得去;反過來推,交界附近本來就有一小塊沒有東西能跑的地帶,這時會變寬,像一道牆,擋住。只做這件事的零件叫二極體。記住這道「反過來就擋住」的牆,下一段要用。

電晶體為什麼平常不通?

電晶體有入口(源極)、出口(汲極),中間上面有一道閘門(閘極),閘極和矽之間隔著一層很薄的絕緣層(長什麼樣子,見「電晶體是什麼?」)。以常見的一種來說,摻雜是這樣排的:

  1. 平常:源極和汲極是 n 型,中間底下那一大塊是 p 型。從源極走到汲極,要過 n 到 p、p 到 n 兩個交界,兩個背對背:不管電往哪邊推,總有一個交界是反的,被那道牆擋住。所以開關平常就是斷的。
  2. 閘極加上正電壓:隔著絕緣層,把電子吸到 p 型矽的表面,把空位推開。電壓夠大,表面薄薄一層的電子就多過空位,這一層變得像 n 型,課本叫它「反轉層」。
  3. 接通:這一層像一座臨時鋪好的 n 型的橋。源極、橋、汲極都是 n 型,中間沒有牆了,電就過得去。電壓拿掉,橋就散了,又回到斷的。

要多大的電壓才鋪得出這座橋,叫門檻電壓(業界叫臨界電壓)。底下的 p 型摻得越多,空位越多,要吸更多電子才蓋得過,門檻就越高。所以摻雜不只決定是 n 還是 p,也決定開關要多大的電壓才打開。

兩格剖面:源極和汲極是 n 型、底下是 p 型。平常 n、p、n 兩個交界背對背,總有一道牆擋住電流,開關是斷的;閘極加上正電壓,把電子吸到表面,形成像 n 型的反轉層,像一座橋,源極和汲極就接通。
要多大的電壓才鋪得出這座橋,叫臨界電壓(也有人叫門檻電壓);底下的 p 型摻得越多,臨界電壓越高(簡化的剖面,不照比例)。

另一種開關,剛好反過來

另一種電晶體把 n、p 對調:源極和汲極是 p 型,底下是 n 型,排成 p、n、p。它在閘極電壓高的時候斷,電壓低的時候才通,橋是用空位鋪的。

現在的晶片,多半把這兩種配成一對:一個負責把輸出接到電源,一個負責接到地,同一時間只有一個通。開關的通或斷,決定這條線接到電源(1)還是接到地(0)。這種配對叫 CMOS,見「CMOS 是什麼?」。因為兩種都要,同一片矽上要同時有 p 型和 n 型兩種「底」,常常各打一大塊,叫做井,各坐一種電晶體。

晶圓廠怎麼摻雜?

  1. 先印模板:用黃光在光阻上開出要摻的地方。只有某些小區塊要變成 n 或 p;不蓋住其他地方,整片都會被改掉。
  2. 把原子打進去:現在多半用離子植入,把原子變成帶電的離子、用電場加速打進矽裡,打多少、打多深都控制得準(細節見「離子植入是什麼?」)。以前多用高溫擴散:把晶圓放進很熱的爐子,讓原子從表面慢慢滲進去,現在某些步驟還在用(見「爐管在做什麼?」)。
  3. 加熱退火:打進去的原子要坐進矽原子的位置,才會多出電子或留下空位,撞亂的格子也要排回去;不退火,那一塊不會照設計導電。可是熱太久,原子又會往旁邊跑,所以很多改成一次一片、只加熱幾秒。
  4. 換一個地方再來一次:n 型的井、p 型的井、調門檻的那一層、兩種電晶體各自的源極和汲極,各打各的,所以一條流程要植入很多次。這幾步怎麼接成一顆電晶體,見「一顆電晶體是怎麼做出來的?」。
離子植入示意圖:硼、磷的離子用電場加速打向晶圓,光阻蓋住的地方,離子停在光阻裡;開口的地方,離子打進矽、停在某個深度。能量越高打得越深,劑量越多打進去的原子越多;打完要加熱退火,讓撞亂的矽排回去、原子開始導電。
像往沙堆丟小石頭:丟得越用力埋得越深(能量),丟得越多顆,裡面的石頭越多(劑量)。光阻擋住不要打的地方,打完還要退火(示意)。

摻錯了,會怎樣?

打進去的原子拿不出來,晶圓外表又看不出差別。錯在哪裡,開關就偏在哪裡:

  • 底下那塊摻多了:門檻變高,開關不容易打開,跑得慢。
  • 底下那塊摻少了:門檻變低,關不緊,閘極說「斷」的時候還有電溜過去,這就是漏電;源極和汲極靠得很近時,甚至會從底下連通,閘極也關不住。一顆晶片有上億個開關,每個多漏一點,放著不用也在耗電(見「晶片為什麼會耗電?」)。
  • 源極和汲極摻少了:入口、出口的電阻變大,開關通的時候,電流也變小。

所以廠裡會量監控片的片電阻,看打進去的量對不對;晶圓做完,WAT 再在測試鍵上量開關的門檻電壓和漏電(見「WAT 是什麼?」)。

在 fab24hr 裡

主線「晶片的一生」第 2 章「一站一站」,是投片後的頭五天:你是研發整合工程師,跟著虛構的助聽器晶片「螢火」第一批 12 片,走過研發線的七個區。第 5 天到植入機 IMP-R1 前面,先把跑卡和機台上的配方一行一行對:傾斜角那一行不一樣,機台上留的是上一個實驗正對著打的版本。改回來,先打 N 型的井,換一層光阻再打 P 型的井;當晚送進爐管 FURN-R1 退火。

在「打工人的一天」也碰得到:按「進廠」、選「打工人的一天」,在「今天你是」卡片上點「研發線」、左右滑到研發製程工程師,名字下面點「植入」。螢火的源極、汲極要打多少、打多深,是你試出來的;深夜班,有一片被選錯了配方,打成「偏快」那一組的劑量。量產廠也有植入的位子。遊戲裡的公司、晶片、人物、機台編號和數字都是虛構的;摻雜和電晶體怎麼開關,照公開的一般資料寫。其他行話可以到「半導體晶圓廠的行話,白話解釋」查。

在遊戲裡你會在哪裡遇到它主線「晶片的一生」第 2 章「一站一站」的第 5 天:你在研發線的植入機 IMP-R1 前面,把跑卡和機台上的配方一行一行對完,先打 N 型的井,換一層光阻再打 P 型的井。

在 fab24hr 裡,第 5 天打進井裡的原子拿不出來:上機之前,跑卡和配方一行一行對。

玩第 2 章「一站一站」,第 5 天把原子打進矽裡

給老師:這一篇可以搭配「在課堂上玩 fab24hr」用在課堂上。

引用這篇〈摻雜是什麼?n 型、p 型半導體怎麼做成「平常斷著」的開關〉,fab24hr,更新。https://fab24hr.com/blog/what-is-doping/
課堂與非營利可以免費使用,投影、放進講義、印給學生都可以,請註明 fab24hr;不能販售,也不能改成自己的作品。 看到錯誤?回報問題

其他文章

這個網站的其他頁